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Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide


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Résumé

Passe en revue les étapes élémentaires de la fabrication de composants micro-électroniques : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. Présente les techniques de caractérisation, indispensables pour juger de la qualité des procédés. Pour chaque étape, sont détaillés le procédé, les équipements et la physique des techniques. ©Electre 2024

Fiche Technique

Paru le : 31/01/2003

Thématique : Electronique

Auteur(s) : Non précisé.

Éditeur(s) : Lavoisier-Hermès

Collection(s) : Traité EGEM

Contributeur(s) : Directeur de publication : Annie Baudrant

Série(s) : Non précisé.

ISBN : Non précisé.

EAN13 : 9782746206052

Reliure : Cartonné

Pages : 192

Hauteur: 24.0 cm / Largeur 16.0 cm


Épaisseur: 1.0 cm

Poids: 510 g