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Intégration du siliciure de nickel : pour les technologies CMOS décananométriques

Auteur : Benoît Froment

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Résumé

Le siliciure de nickel pur ou allié avec du platine est maintenant utilisé comme contacts dans les technologies CMOS car il nécessite un plus faible budget thermique, possède une plus faible résistivité, consomme moins de silicium, a une formation contrôlée par la diffusion et permet d'obtenir une phase peu résistive sur SiGe, contrairement à son prédécesseur le siliciure de cobalt... ©Electre 2025

Fiche Technique

Paru le : 06/02/2012

Thématique :

Auteur(s) : Auteur : Benoît Froment

Éditeur(s) : Editions Universitaires Européennes

Collection(s) : Non précisé.

Série(s) : Non précisé.

ISBN : 978-3-8417-8884-9

EAN13 : 9783841788849

Reliure : Broché

Pages : 228

Hauteur: 22.0 cm / Largeur 15.0 cm


Poids: 342 g